[发明专利]一种板式PECVD设备中单管镀膜效果的检测方法

摘要

本发明提供一种板式PECVD设备中单管镀膜效果的检测方法，其特征在于，包括：步骤1，对板式PECVD设备中的反应仓进行检漏；步骤2，设定符合镀膜要求的反应仓和单管的反应条件的参数值；步骤3，空运行一遍石墨框，并等待反应仓和单管的反应条件的参数值稳定；步骤4，测试第一根单管，调整石墨框的传输速度；步骤5，重复步骤3；步骤6，将石墨框装上待镀膜硅片送入反应仓进行镀膜；步骤7，重复步骤4‑6，依次完成多根单管对硅片的镀膜；步骤8，分析每一根单管镀膜后的镀膜效果。根据本发明实施例提供的板式PECVD设备中单管镀膜效果的检测方法，能够可以精确检测每根单管的镀膜效果，快速找出镀膜异常的单管，解决了板式PECVD设备检修发现问题用时久。