[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010467028.1 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN112054021A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: R·魏斯;R·克诺夫勒 申请(专利权)人: 英飞凌科技德累斯顿公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/822;H01L29/06;H01L29/78;H01L29/808
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘炳胜
地址: 德国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括:具有第一掺杂类型的多个第一半导体层和与第一掺杂类型互补的第二掺杂类型的多个第二半导体层的层堆叠体,其中第一半导体层和第二半导体层交替布置在层堆叠体的第一表面和第二表面之间。该半导体器件还包括:与多个第一半导体层毗连的第一半导体器件的第一半导体区;第一半导体器件的至少一个第二半导体区,其中,至少一个第二半导体区中的每者与多个第二半导体层的至少其中之一毗连,并且与第一半导体区间隔开;以及被配置为形成扩散阻挡部的至少一个阻挡层,其中,至少一个阻挡层中的每者被布置为平行于第一表面和第二表面,并且与第一半导体层之一相邻或者与第二半导体层之一相邻,或与两者相邻。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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