[发明专利]一种CTLM比接触电阻测量装置及比接触电阻测量设备在审
| 申请号： | 202010469848.4 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113740608A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 尹振;尚海平;王英辉 | 申请（专利权）人： | 昆山微电子技术研究院 |
| 主分类号： | G01R27/08 | 分类号： | G01R27/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王雨 |
| 地址： | 215347 江苏省苏州市昆*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种本发明所提供的CTLM比接触电阻测量装置，包括电压测试电路、电流测试电路及均压电路；所述均压电路包括外电极公共端及多条外电极引线，所述外电极引线的输入端连接于所述外电极公共端，输出端连接于CTLM待测结构的外电极外边缘；多条所述外电极引线的输出端在所述外电极边缘均匀分布；所述电压测试电路包括两个电压探针，两个所述电压探针分别用于连接所述CTLM待测结构的内电极及外电极；所述电流测试电路包括两个电流探针，两个所述电流探针分别用于连接所述CTLM待测结构的内电极及所述外电极公共端。本发明提高电势分布均匀性。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的比接触电阻测量设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ctlm 接触 电阻 测量 装置 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山微电子技术研究院，未经昆山微电子技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010469848.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：血管钙化图像分割方法、系统和可读存储介质
- 下一篇：一种低氮尾气焚烧炉
