[发明专利]曝光装置及其使用方法在审
| 申请号： | 202010473800.0 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN111596529A | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 罗骁霄;张忠宽;宋阳;扈映茹 | 申请（专利权）人： | 成都天马微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人： | 于淼 |
| 地址： | 611730 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置及其使用方法，涉及显示面板制造技术领域，包括光源、掩膜版和光路补偿单元，光路补偿单元设置于掩膜版远离光源的一侧，掩膜版上设置有掩膜图案；光路补偿单元包括第一子补偿单元和/或第二子补偿单元，第一子补偿单元包括具有中空结构的密闭组件，中空结构中设置第一填充物，第一填充物用于改变密闭组件的压强，并改变光路补偿单元的折射率；第二子补偿单元包括一透光结构，透光结构靠近和/或远离掩膜版的一侧表面设置有薄膜层，薄膜层和透光结构用于改变光路补偿单元的折射率。通过对光路补偿单元折射率的调控，改变于基板上所成像的大小，使所得到的转印图形相比掩膜版图案增大或减小；有利于曝光装置的使用局限性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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