[发明专利]一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机在审
| 申请号： | 202010479847.8 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN113741151A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 程国苗;冯光磊;申楠楠;董浩;李新振;胡玉龙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机。所述掩膜板整形装置包括：透明盖板、支撑固定框、承板台、真空吸附气动系统、恒压气动控制系统以及可控抽真空系统；其中，透明盖板与支撑固定框连接，且覆盖支撑固定框的中空区域；透明盖板和支撑固定框与待整形掩膜板构成密闭腔；承板台用于承载待整形掩膜板的边框区，并吸附固定支撑固定框；真空吸附气动系统用于为承板台提供吸附力；恒压气动控制系统用于维持密闭腔内的气压恒定；可控抽真空系统用于实现密闭腔内流量可控的抽真空。本发明实施例提供的技术方案，避免真空过抽现象发生的同时，保证了密闭腔能够以较短的时间建立目标真空，进而实现了对待整形掩膜板的有效整形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 整形 装置 方法 光刻 | ||
【主权项】：
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