[发明专利]掩膜板的清洁装置、清洁系统及清洁方法在审
申请号: | 202010496108.X | 申请日: | 2020-06-03 |
公开(公告)号: | CN111505900A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 王子润;曾望明;李春庭;郑安辉;侯德尧 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁;宋海斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请提供了一种掩膜板的清洁装置、清洁系统和清洁方法。该掩膜板的清洁装置包括:清洁棒、支架、外壳、推杆以及驱动机构;清洁棒包括棒体和粘头,粘头设置于棒体的一端;外壳为两端开口的中空筒,外壳固定于支架上,清洁棒内置于外壳内部;推杆的一端与棒体远离粘头的一端连接,推杆的另一端与驱动机构的动力输出端连接,推杆在驱动机构的驱动下推动清洁棒相对外壳进行上下移动,使得粘头、或者粘头和棒体的一部分伸出外壳。本申请实现了通过粘头的粘性来修复掩膜板上的各种形状和种类的污染物,保证金属掩膜板的洁净,能有效提高产品良率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 清洁 装置 系统 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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