[发明专利]一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法有效

专利信息
申请号: 202010499955.1 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN111628117B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 胡璐 申请(专利权)人: 南京华易泰电子科技有限公司
主分类号: H10K71/00 分类号: H10K71/00;H10K71/15;H10K71/16;H10K50/10
代理公司: 深圳紫晴专利代理事务所(普通合伙) 44646 代理人: 林鹏
地址: 210043 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本发明专利公开了一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法,其方法包括如下步骤:首先在OLED基板上涂覆一层光阻层(PR);对涂覆光阻层的基板上方,用掩膜版覆盖,从上方进行曝光照射,使曝光区域下的光刻胶发生光化学反应,将掩膜版阻挡的部位定义为A区域;OLED基板上被掩膜版阻挡的部位A区域的光刻胶溶解脱落;本发明专利通过干刻蚀法对表面蒸镀OLED功能层的基板进行处理,使得剥膜液可以顺利在OLED功能层未覆盖的光阻裸露区域与其接触,达到有效去除光阻目的,解决了目前采用的OLED蒸镀制程工艺在进行蒸镀后光刻胶难剥离,容易造成光刻胶无法顺利去除,从而影响后续制程的问题,避免了OLED显示器产生像素点缺色形成黑点,造成显示不良的情况。
搜索关键词: 一种 oled 提高 光刻 剥离 效果 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京华易泰电子科技有限公司,未经南京华易泰电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010499955.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top