[发明专利]一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法有效
申请号: | 202010499955.1 | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN111628117B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 胡璐 | 申请(专利权)人: | 南京华易泰电子科技有限公司 |
主分类号: | H10K71/00 | 分类号: | H10K71/00;H10K71/15;H10K71/16;H10K50/10 |
代理公司: | 深圳紫晴专利代理事务所(普通合伙) 44646 | 代理人: | 林鹏 |
地址: | 210043 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明专利公开了一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法,其方法包括如下步骤:首先在OLED基板上涂覆一层光阻层(PR);对涂覆光阻层的基板上方,用掩膜版覆盖,从上方进行曝光照射,使曝光区域下的光刻胶发生光化学反应,将掩膜版阻挡的部位定义为A区域;OLED基板上被掩膜版阻挡的部位A区域的光刻胶溶解脱落;本发明专利通过干刻蚀法对表面蒸镀OLED功能层的基板进行处理,使得剥膜液可以顺利在OLED功能层未覆盖的光阻裸露区域与其接触,达到有效去除光阻目的,解决了目前采用的OLED蒸镀制程工艺在进行蒸镀后光刻胶难剥离,容易造成光刻胶无法顺利去除,从而影响后续制程的问题,避免了OLED显示器产生像素点缺色形成黑点,造成显示不良的情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 oled 提高 光刻 剥离 效果 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京华易泰电子科技有限公司,未经南京华易泰电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010499955.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种锂离子电池直流内阻测试方法
- 下一篇:一种动画资源制作方法及装置