[发明专利]一种含间位碳硼烷配体的亚铜配合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202010512755.5 | 申请日： | 2020-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN111732600B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 王洋;姚子健 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术大学 |
| 主分类号： | C07F5/05 | 分类号： | C07F5/05;C07F1/08;B01J31/22;C07D235/18 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 201418 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含间位碳硼烷配体的亚铜配合物及其制备方法和应用，该亚铜配合物通过一下方法制得：将n‑BuLi与间位碳硼烷二酚反应，然后加入3‑氯吡啶继续反应，再将CuI加入反应体系接着反应，反应结束后分离得到含间位碳硼烷配体的亚铜配合物，并应用于一锅法合成苯并咪唑衍生物中。与现有技术相比，本发明可以使用廉价易得的邻苯二胺和醛类化合物为底物，反应条件温和，普适性好，催化效率高，副产物少，成本较低且产物易于分离，不会产生大量废渣。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 间位 碳硼烷配体 配合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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