[发明专利]半导体装置及制造半导体装置的方法在审

专利信息
申请号: 202010515786.6 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN112071822A 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 班文贝;欧权锡;乔治·斯科特 申请(专利权)人: 安靠科技新加坡控股私人有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/31;H01L21/48;H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 代理人: 何尤玉;郭仁建
地址: 新加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体装置及制造半导体装置的方法。一种半导体装置,其包含:衬底,其具有衬底顶部侧、衬底横向侧和衬底底部侧;在所述衬底顶部侧上的电子装置;以及在所述衬底顶部侧上的密封剂,其接触所述电子装置的横向表面。所述衬底包含导电结构和介电结构,所述介电结构包含与所述密封剂接触的突出部。所述导电结构包含引线,所述引线包含引线侧翼,所述引线侧翼包含空腔和在所述空腔中的所述引线的表面上的导电涂层。所述导电结构包含在所述衬底顶部侧处暴露的焊盘,所述焊盘嵌入在所述介电结构中并且与所述突出部相邻,以经由第一内部互连件与所述电子装置电耦合。本文还公开了其它实例和相关方法。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安靠科技新加坡控股私人有限公司,未经安靠科技新加坡控股私人有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010515786.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top