[发明专利]显示装置及显示装置的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010517377.X 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN111725272B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 曹祖强;戴超 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种显示装置及显示装置的制备方法,所述显示装置包括:衬底基板;功能层,设置于所述衬底基板上,所述功能层还包括一开孔区,所述开孔区的内壁面开设有至少一条沟槽;及金属走线,沿着所述开孔区的所述内壁面延伸,且至少部分所述金属走线贴设于所述沟槽内壁面上。相较于现有的显示装置,本发明通过在所述显示装置内增加至少一条沟槽,以容置金属走线,使得所述金属走线在坡面上产生的残留物因存在高度差而落入所述沟槽内,所述残留物不在开孔区内堆积,避免了相邻的所述金属走线相互连通发生短路。
搜索关键词: 显示装置 制备 方法
【主权项】:
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