[发明专利]一种投影式远端掩模板光刻方法及其设备在审
| 申请号： | 202010518861.4 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN111552152A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 吴阳;严振中 | 申请（专利权）人： | 赫智科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 廖娜 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种投影式远端掩模板光刻方法及其设备，包括以下步骤：步骤1：首先紫外光和指引光分别通过第一准直透镜组和第二准直透镜组进行准直处理；步骤2：在步骤1的光进入二向色镜进行合束，通过聚焦透镜组射入匀光模组的入射端面；步骤3：通过第三准直透镜组；步骤4：步骤3中的准直光通过反射镜反射至第一分光片，并反射至远端掩模板上；步骤5：步骤4中反射的光将带有远端掩模板上的信息，与第二分光片和照明光进行合束处理；步骤6：步骤5中将合束的带有信息的光通过第三分光片，光束打至样品上，照射出远端掩模板上的信息，实现信息的转移；步骤7：最后通过相机对样品进行实时成像观测。本发明不会污染掩模板且成本更低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 远端 模板 光刻 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
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