[发明专利]化学机械抛光装置及驱动其的方法有效
| 申请号： | 202010521547.1 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN113021177B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 朴宗烈;潘俊昊 | 申请（专利权）人： | 爱思开海力士有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02;B24B37/30 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 许伟群;阮爱青 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及化学机械抛光(CMP)装置及驱动其的方法。化学机械抛光(CMP)装置可以包括：附接有晶片的抛光头；布置在抛光头下方的抛光垫；以及被配置为将浆料供应到抛光垫与晶片之间的空间的浆料供应器。浆料供应器可以包括在抛光垫的直径方向上布置的多喷射喷嘴。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 驱动 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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