[发明专利]一种TEM样品的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010522287.X 申请日: 2020-06-10
公开(公告)号: CN111693554A 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 钟超荣;齐瑞娟;成岩;黄荣 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: G01N23/20008 分类号: G01N23/20008;G01N23/04;G01N1/28
代理公司: 北京恒创益佳知识产权代理事务所(普通合伙) 11556 代理人: 付金豹
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种TEM样品制备方法,该方法包括以下步骤:使用聚焦离子束在目标结构上下两侧轰击出凹坑,对靠近目标结构两侧侧壁进行清理,然后对目标结构进行U型切割,而后使用纳米操纵仪将目标结构原位转移到铜支架上,然后将铜支架旋转90度使目标结构的侧面正对离子束方向,接着使用小束流将目标结构的侧面损伤区域切割清理干净,以便在目标结构的侧面上沉积保护膜,然后进行最后的细抛减薄。该方法可将传统FIB制备TEM样品侧面薄区范围从不足1微米提高到6微米以上,大大提高了对目标结构侧面微结构的观测范围。
搜索关键词: 一种 tem 样品 制备 方法
【主权项】:
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