[发明专利]曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 202010536463.5 | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN111580354A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 董飞;李响 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/32;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。本发明采用第一掩膜板对衬底基板上的第一曝光区域和第二曝光区域处的感光材料进行曝光，将第一掩膜板更换为第二掩膜板，控制第二掩膜板相对于衬底基板朝向目标方向移动，采用第二掩膜板对衬底基板上的第二曝光区域和第三曝光区域处的感应材料进行曝光。采用第一掩膜板和第二掩膜板可实现对衬底基板上的感光材料进行拼接曝光，因此，通过调节第一掩膜板和第二掩膜板的相关尺寸，则可采用第一掩膜板和第二掩膜板制作不同尺寸的显示基板，因此，在曝光时不同产品之间的掩膜板可以复用，从而降低了制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 掩膜板 组件 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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