[发明专利]一种阻隔光阻放气污染的装置在审

专利信息
申请号: 202010544352.9 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111736432A 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 李艳丽;伍强;顾峥 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阻隔光阻放气污染的装置,包括:一气体挡板,设于真空腔室内,并位于动态气体锁和晶圆之间,所述气体挡板上设有透光缝隙,所述透光缝隙的大小至少保证穿过所述动态气体锁的光线全部得到通过,并投射到涂覆光阻的所述晶圆的扫描区域上形成像场;其中,利用所述扫描区域在所述透光缝隙下方的不断变换,及所述光阻因曝光产生酸性气体相对于所述扫描区域变换的延时效应,使前一所述扫描区域在其上所述光阻产生酸性气体时,已位于所述透光缝隙以外的所述气体挡板下方,从而对其产生的酸性气体进行阻隔和吸附。本发明能够大大延缓更换动态气体锁的时间,增加出货量。
搜索关键词: 一种 阻隔 放气 污染 装置
【主权项】:
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