[发明专利]一种曝光机的曝光方法及显示基板有效
| 申请号： | 202010562059.5 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111596531B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 徐攀;张大成 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 提供了一种曝光机的曝光方法及显示基板，该曝光机的曝光方法应用于待曝光显示基板，所述待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，所述曝光机的曝光方法包括：将玻璃基板分成至少一个曝光区域；将所述待曝光显示基板放置在所述玻璃基板上；将所述待曝光显示基板上相同的子像素放置在同一个曝光区域中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 显示 | ||
【主权项】：
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