[发明专利]掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法有效
| 申请号： | 202010565019.6 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111596527B | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 林伟;林超 | 申请（专利权）人： | 成都路维光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F1/68 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理有限公司 51220 | 代理人： | 余翔 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，包括以下步骤:S1建立掩膜版模型，选择影响掩膜版旋涂工艺的旋转参数和考核掩膜版涂胶质量的目标参数；其中，所述旋转参数包括涂胶转盘的旋转速度rpm、涂胶转盘的旋转时间t和涂胶转盘的旋转加速度a；所述目标参数为膜厚平均值、膜厚均匀性和色差；S2赋予每个旋转参数多个参数值，将参数值和目标参数建立正交表；S3将正交表内的每组参数值赋予到涂布转盘上，并进行掩膜版的旋转涂胶，最后计算出正交表内每组参数值对应的目标参数值；S4从正交表中选出最优的一组旋转参数；相比于传统需要做大量试验的筛选方法而言，通过本发明的方法能得到最优的旋转参数，方法更加高效、可靠，同时也大大降低了试验成本。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 旋转 涂胶 参数 优化 方法 | ||
【主权项】：
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