[发明专利]阻变存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010576753.2 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111668252A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 罗庆;姜鹏飞;吕杭炳;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阻变存储器及其制备方法。其中,该阻变存储器包括:阻变介质层,用于阻变存储;其中,阻变介质层包括:掺杂介质层,其部分具有一定掺杂浓度的金属原子,用于在阻变存储器中形成局部增强电场,使得阻变存储器的导电通道生成位置可控,从而提高器件可靠性,同时,因此可以使得本发明的阻变存储器具有免去初始激活过程特性,在初始时稳定表现为低阻态,防止在大电压激活过程中造成的电流过冲问题,此外在保证了较好电压耐受能力的同时,可以使得器件本申请的尺寸得到很好的控制,降低了大电压的功耗。
搜索关键词: 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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