[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010587964.6 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN112185952A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 河野诚 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/08;H01L27/088;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/78;H01L29/861
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及半导体装置。在半导体衬底(2)的第一单元区域(3a)形成有第一半导体元件(4a)。在半导体衬底(2)的第二单元区域(3b)形成有第二半导体元件(4b)。第一半导体元件(4a)包含第一电极(18a)、第一p区域(11a)。第二半导体元件(4b)包含第二电极(18b)、第二p区域(11b)。第一电极(18a)与第二电极(18b)彼此分离。第一p区域(11a)与第二p区域(11b)彼此分离。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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