[发明专利]一种清洗装置和清洗方法在审
| 申请号： | 202010600032.0 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111736426A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 袁亚鸿;杨阳;古春笑 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/84;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;G01N29/07 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施方式涉及清洗设备技术领域，公开了一种清洗装置和清洗方法，清洗装置包括：清洗槽，位于所述清洗槽内的检测振子及清洗振子，连接所述检测振子以及所述清洗振子的控制器；所述检测振子用于检测待清洗掩膜版上残留物的位置；所述控制器用于根据所述残留物的位置控制所述清洗振子清洗所述待清洗掩膜版，在避免掩膜版过洗的同时，提升了掩膜版的清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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