[发明专利]图案描绘方法在审
| 申请号： | 202010601953.9 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN111665686A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 小宫山弘树 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H04N1/113;G02B26/10;G02B26/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 叶明川;王涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 描绘 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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