[发明专利]一种处理方法以及电子设备有效
| 申请号： | 202010609905.4 | 申请日： | 2020-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN111683485B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 吴新中 | 申请（专利权）人： | 联想（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/02 | 分类号： | H05K5/02;H05K5/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 尹秀 |
| 地址： | 100085 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种处理方法以及一种电子设备，该处理方法包括：在第一工艺空间内，在电子设备的第一表面形成氧化层，接着继续在所述第一工艺空间内，在所述氧化层背离所述电子设备的第一表面的一侧表面形成抗指纹膜层，以减少在所述电子设备的第一表面依次形成所述氧化层至所述抗指纹膜层过程中的加工时间，从而减短产品的供货周期，并且由于所述抗指纹膜层具有多个凸起，能有效提高电子设备的抗指纹效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
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