[发明专利]一种利用非晶碳低温制备石墨烯的方法有效

专利信息
申请号: 202010610464.X 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111826610B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 吴艳霞;于盛旺;刘颖;刘云琳;高洁;黑鸿君;周兵;马永 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/58;C23C14/35;C23C16/26;C23C16/50;C23C16/56
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 申艳玲
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种利用非晶碳低温制备石墨烯的方法。在真空腔体中使用Ni、Fe、Co其中一种磁性金属作为基台,在基台处设置电磁铁,在加偏压的情况下,基台处形成了由闭合磁场约束的等离子氛围,基底置于基台上,基台元素被反溅射到基底上,依次通过反溅射基台、溅射碳靶材或者离化含碳气体,在基底上沉积磁性金属/非晶碳多层薄膜,然后使用热处理炉,通过控制退火温度和退火时间,最终得到不同层数和不同结晶度的石墨烯。使用该方法制备的石墨烯层数可控、质量高、均匀性好,同时操作简便、成本低廉。
搜索关键词: 一种 利用 非晶碳 低温 制备 石墨 方法
【主权项】:
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