[发明专利]曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机在审
| 申请号： | 202010631694.4 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111880379A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 项宗齐 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/213;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 贾玉姣 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机，方法包括：对待曝光图形进行分段，得到多个具有预设长度的分段图形，每个分段图形均具有对准标记，预设长度为曝光机的一次曝光长度；若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段，则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光；若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段，则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记，对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正，并对校正后的分段图形进行曝光，迭代执行该步骤，直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。本发明在分段加工图像时，后段图形能够与前段图像通过对准标记进行精准对位，从而提高曝光精度，进而保证产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 图形 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥芯碁微电子装备股份有限公司，未经合肥芯碁微电子装备股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010631694.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
