[发明专利]CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 202010632185.3 申请日: 2020-07-02
公开(公告)号: CN111856895B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 尹栋;李标;刘炜;毛家福 申请(专利权)人: 深圳市四元数数控技术有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 高福勇
地址: 518105 广东省深圳市光明区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质,该方法包括:计算基材上的基准点到胶片上的标记点之间的距离,并获取所述距离的最小二乘解;将所述距离的最小二乘解传递到范式距离或霍夫距离中,采用范式距离或者霍夫变换获取所述基准点到所述标记点之间的真实距离;控制所述曝光机的对位平台根据所述真实距离进行移动,使得所述基准点与所述标记点重合对位。本发明用于解决现有对位方式在材料形变情况下的对位精度低的问题。
搜索关键词: ccd 曝光 对位 方法 装置 及其 计算机 可读 存储 介质
【主权项】:
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