[发明专利]一种纳米超顺磁性分子印迹磁珠及制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010637080.7 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111774041A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 刘雪峰;王子龙;彭秀英;董培智;马学文;芦冬涛 | 申请（专利权）人： | 山西大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;G01N1/28;G01N1/38;G01N1/40;C08F222/14;C08F220/04;C08J9/28;C08L35/02 |
| 代理公司： | 太原申立德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14115 | 代理人： | 郭海燕 |
| 地址： | 030006*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于化学分析检测技术领域，具体涉及一种纳米超顺磁性分子印迹磁珠及制备方法和应用。该分子印迹磁珠的制备方法包括超顺磁性纳米材料的制备、表面二氧化硅的包覆修饰和表面分子印迹修饰制备三个步骤。本发明的识别西地那非分子印迹磁珠对西地那非分子具有高选择性吸附作用，可用于西地那非分子的吸附富集，其比表面积大、分散性好、吸附量大、磁响应性强，且具有好的稳定性，结合色谱、电化学等检测技术，有利于提高对食品、药品、保健品等产品中微量西地那非分子的检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 顺磁性 分子 印迹 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西大学，未经山西大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010637080.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种接地棒及接地装置
- 下一篇：一种有益菌培养基及培养方法
