[发明专利]真空处理装置在审
| 申请号： | 202010656823.5 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN111748786A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 中尾裕利 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;金飞 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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