[发明专利]具有在其中共享源极/漏极区的晶体管的半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010657486.1 申请日: 2020-07-09
公开(公告)号: CN112242395A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 石井利尚 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请案涉及具有在其中共享源极/漏极区的晶体管的半导体装置。本文中公开一种设备,其包含:第一扩散区,其具有矩形形状并且包含沿所述第一方向布置的第一源极/漏极区和第二源极/漏极区;第二扩散区,其具有矩形形状并且包含沿所述第一方向布置的第三到第五源极/漏极区;第一栅电极,其沿第二方向延伸,并且设置于所述第一源极/漏极区和第二源极/漏极区之间以及所述第三源极/漏极区和第四源极/漏极区之间;和第二栅电极,其沿所述第二方向延伸,并且设置于所述第四源极/漏极区和第五源极/漏极区之间。所述第一源极/漏极区和第三源极/漏极区带有彼此相同的电势,且所述第二源极/漏极区和第四源极/漏极区带有彼此相同的电势。
搜索关键词: 具有 其中 共享 漏极区 晶体管 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010657486.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top