[发明专利]多射束描绘方法以及多射束描绘装置在审
| 申请号： | 202010661012.4 | 申请日： | 2020-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN112213926A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 松本裕史 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及多射束描绘方法及多射束描绘装置。本发明的一个方式的多射束描绘方法，进行基于射束偏转的第k次(k为自然数)的追踪控制，以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，在进行第k次的追踪控制的同时，在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次束发射，在第k次的跟踪控制期间经过后，使跟踪位置返回到对第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。 | ||
| 搜索关键词： | 多射束 描绘 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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