[发明专利]基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质在审
| 申请号： | 202010662689.X | 申请日： | 2020-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN112241109A | 公开（公告）日： | 2021-01-19 |
| 发明（设计）人： | 梶原正幸;一野克宪;石丸大辅;田尻卓也;山本笃;今村真人;牟田友彦;入山哲郎;坂本丈明;冈口广树;安达健二 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质，对于减少向基板喷出的处理液中的微粒是有用的。本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备：喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；送液部，其向喷出部输送处理液；补充部，其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液；连接部，其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀；过滤器，其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除；补充准备部，其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小，之后打开所述切换阀；以及补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的情况下，使补充部开始向送液部补充处理液。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 控制 方法 以及 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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