[发明专利]一种基于模型仿真的激光直写光学邻近效应校正方法在审
申请号: | 202010684834.4 | 申请日: | 2020-07-16 |
公开(公告)号: | CN111736423A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 杨尚;韦亚一;张利斌 | 申请(专利权)人: | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 | 代理人: | 陈婧 |
地址: | 211899 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于模型仿真的激光直写光学邻近效应校正方法,首先将原始gds文件数字化处理,并利用建立的光学模型进行仿真,然后利用邻近区域能量求和法得到对应的能量分布图;接着利用阈值法将所述能量分布图转化为二值图后,根据所述二值图上的角能量判定点和边能量判定点对应位置上的能量值与能量阈值的比较,按照指定像素值进行像素的加减,多次迭代直至满足要求后,转化为gds文件并保存,能够对畸变进行校正,提升图案质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 模型 仿真 激光 光学 邻近 效应 校正 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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