[发明专利]一种双面施哑光釉青瓦还原烧成工艺在审
申请号: | 202010693418.0 | 申请日: | 2020-07-17 |
公开(公告)号: | CN111848119A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 倪志远 | 申请(专利权)人: | 怀化市小康瓷砖厂 |
主分类号: | C04B33/04 | 分类号: | C04B33/04;C04B33/13;C04B33/24;C04B33/34;C04B33/30;C03C8/00;C04B41/86 |
代理公司: | 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207 | 代理人: | 陈铭浩 |
地址: | 418000*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面施哑光釉青瓦还原烧成工艺,属于建筑材料技术领域,其以风化质红页岩为坯体原料,哑光釉为釉料烧成得到,具体工艺步骤包括干法制粉、湿法制粉、压坯成型、干燥、混合、甩釉、烧成七个步骤,该工艺采用辊道窑高温还原气氛烧成,制得产品的抗折强度、抗冻性能、急冷急热、耐酸碱的检测数据均达到了GB/T21149‑2019的技术要求,且坯体与釉料颜色相近,都呈青黑色,美观素雅,质感细腻,整体抗污能力更强,吸水率低,后期坯体因吸湿不会产生膨胀和龟裂现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 施哑光釉 青瓦 还原 烧成 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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