[发明专利]一种阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010706047.5 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN111863838A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 赵慧慧;朴宇成 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 裴磊磊
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制备方法,阵列基板包括基板,其一侧表面依次设有阻隔层、有源层、第一绝缘层、第二绝缘层、第一介电层、第三绝缘层及第二介电层;第一凹槽,依次贯穿第二介电层、第三绝缘层、第一介电层、第二绝缘层、第一绝缘层、有源层以及部分的阻隔层,所述第一凹槽的底面位于所述阻隔层的内部;以及第一源漏电极,设于第二介电层远离第三绝缘层的一侧表面,且覆盖第一凹槽的内侧壁和底面,第一源漏电极连接至有源层。本发明的有益效果在于,本发明的阵列基板及其制备方法,第一凹槽的侧壁上设有一台阶面,源漏电极覆盖台阶面,从而具有一缓冲效果,避免由于第一凹槽的侧壁过长导致的源漏电极断裂的问题。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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