[发明专利]一种MMG掩模板的制作方法

摘要

本发明实施例涉及光刻技术领域，公开了一种MMG掩模板的制作方法，该方法通过制作MMG掩模板的数据；分析数据中像素间隔值，将数据中X轴方向像素间隔值相同或/和Y轴方向像素间隔值相同的panel划分为同一曝光区域；将同一曝光区域内所有panel设计到同一图层；设置每个曝光区域的曝光参数，并在设置好曝光参数后进行格式转换；投入MMG掩模板原材料，根据转换后的曝光参数，按照曝光参数，依序对每个同一图层进行曝光；之后依照常规掩模板制作流程进行生产，直至获得MMG掩模板，本发明实施例提供的MMG掩模板的制作方法，在不需要通过光刻机设备自带收费软件功能，实现了MMG掩模板的制作，降低了生产成本。