[发明专利]采用致密交联离子膜制备12个9以上超纯氢氟酸的方法

摘要

本发明采用配置致密交联阴离子膜和致密交联阳离子膜的膜电解装置，利用F‑和H+是氢氟酸中离子尺寸最小的阴阳离子，通过致密交联离子膜低于0.5nm极致小的离子通道，能高选择性单向渗透通过H+和F‑，将纯度99%以上的含水氢氟酸膜电解提纯达到12个9以上的超纯电子级氢氟酸，将离子尺寸很大的三价砷As3+、Cl—、氟硅酸、磷酸根、硫酸根等各种杂质离子脱除到≤0.001ppb。由于不需要加热，生产条件更安全可靠，成本极其低廉，突破国外技术壁垒，具有巨大的产业化优势，满足国内14~28nm高端芯片产业对超纯氢氟酸的极致苛刻质量要求。