[发明专利]一种真空镀膜机用的石墨坩埚在审
| 申请号： | 202010767794.X | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111910157A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 陈珂珩 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞康真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/30 |
| 代理公司： | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人： | 毛洪梅 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种真空镀膜机用的石墨坩埚，包括上盖、坩埚主体；所述坩埚主体上设置有上盖；所述坩埚主体包括坩埚内层、坩埚外层、隔离层、高温气泵；所述坩埚外层的材料为石墨；电子束作用于坩埚外层；所述坩埚外层内设置有坩埚内层；所述坩埚内层为耐高温的金属材料；所述坩埚内层与坩埚外层之间设置有隔离层，所述隔离层为密闭空腔；隔离层的出口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接；本发明中利用隔离层避免坩埚外层直接对坩埚内层进行加热，造成坩埚内层受热不均；隔离层的入口、高温气泵、隔离层的入口通过连接管连接；通过高温气泵促进隔离层内气体流动，使坩埚内层受热均匀；并且隔离层起到一定的隔热的作用，可以更好控制坩埚内层的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 石墨 坩埚 | ||
【主权项】：
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