[发明专利]一种水平沉铜液及其制备方法有效
| 申请号： | 202010777083.0 | 申请日： | 2020-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN111893466B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 丁先峰;李良华 | 申请（专利权）人： | 广州皓悦新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/40 | 分类号： | C23C18/40 |
| 代理公司： | 广州科沃园专利代理有限公司 44416 | 代理人： | 张帅;陆丰艳 |
| 地址： | 510635 广东省广州市广州高*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于水平沉铜液技术领域，具体涉及一种水平沉铜液及其制备方法。本发明提供的水平沉铜液中，铜盐的含量为10～15g/L，稳定剂的含量为0.1～0.3mg/L，还原剂的含量为8～12g/L，络合剂的含量为25～32g/L，加速剂的含量为0.3～0.8g/L，柔韧剂的含量为0.2～0.5g/L。本发明提供的水平沉铜液的稳定性好、沉积速率高，得到的镀层光亮度好、平整度好，且具有良好的韧性和延展性，显著提高了镀件的使用寿命以及产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 水平 沉铜液 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州皓悦新材料科技有限公司，未经广州皓悦新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010777083.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于磁光效应的介质折射率传感器
- 下一篇：一种基于磁光效应的加速度传感器
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
