[发明专利]一种63在审

专利信息
申请号: 202010781388.9 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN111962106A 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 高岩;刘明阳;王念;崔洪起;任春侠;谭小明;王安达;付轲新 申请(专利权)人: 原子高科股份有限公司
主分类号: C25D3/12 分类号: C25D3/12
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 陆薇薇
地址: 102413 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于放射源制备技术领域,涉及一种63Ni放射源及其制备方法。所述63Ni放射源的制备方法包括将衬底表面清洗干净之后置于电镀液中进行电镀,以在衬底上形成63Ni放射源层,所述电镀液中含有63NiCl2、三氯化铈、pH值缓冲剂和导电盐且余量为水。采用本发明提供的方法制备63Ni放射源,不仅能够提高衬底与放射源层的结合度,改善放射源层的稳定性,而且还具有很好的重复性,能够降低工业生产过程中的操作难度,易于批量生产,满足社会对63Ni纯β放射源的需求。
搜索关键词: 一种 base sup 63
【主权项】:
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