[发明专利]一种高纯度天麻素的合成方法在审

专利信息
申请号: 202010788449.4 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111978361A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 杨明;王俊臣;樊振;张宏周;徐文斌;李青丽;赵臻;钱丹;苏济功;年蓓蕾;张玉斌;刘继方 申请(专利权)人: 天方药业有限公司
主分类号: C07H15/203 分类号: C07H15/203;C07H1/00;C07H1/06
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 张丽
地址: 463000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开一种高纯度天麻素的合成方法,其步骤为:将五乙酰天麻苷、酸性树脂、甲醇加入反应器中,先室温搅拌拌15min~1h,升温至回流搅拌3‑5h,过滤,滤液减压浓缩,接着加入甲醇钠甲醇溶液回流拌15min~1h,加入氯仿,回流后热过滤,滤液降温,过滤,重结晶得产品。本发明提供的一种高纯度天麻素合成方法,先用酸性树脂脱去大部分乙酰基再进行酯交换反应,具有副产物少、操作简单,重复性强,收率高等优点。
搜索关键词: 一种 纯度 天麻 合成 方法
【主权项】:
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