[发明专利]试样预处理装置在审
申请号: | 202010805626.5 | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN112485076A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 高桥和辉;寺岛健太 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/34;G01N27/62 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种试样预处理装置,准确且高效地解除由基质物质的结晶的沉淀引起的喷嘴的堵塞。本发明所涉及的试样预处理装置的一个方式是向试样的表面涂布溶解有或分散有规定的物质的溶液的试样预处理装置,该试样预处理装置具备:喷洒部(3),其包括用于流通所述溶液的溶液管(32)、用于流通喷雾气体的气体管(33)以及通过喷出经过所述气体管后的喷雾气体来将到达所述溶液管的末端的所述溶液进行喷雾的喷嘴部(30);以及所述清洗液供给部(4、41),其从所述喷洒部的外侧向所述喷嘴部的开口施加清洗液。 | ||
搜索关键词: | 试样 预处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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