[发明专利]绿色版图的认证方法及预警点的风险性的判断方法在审
| 申请号： | 202010832185.8 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN111948899A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 齐雪蕊;张辰明;孟鸿林;孟春霞;魏芳;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种绿色版图的认证方法，包括：获取版图上的第一低风险点；获取第一低风险点的当前层的版图形状、参考层的版图形状、OPC模拟值和OPC修正后的值，并建立第一信息库；获得出版版图的预警点，判断预警点的当前层的版图在第一范围内是否和第一信息库中的当前层版图相同；如果相同，则判断预警点的参考层的版图形状在第二范围内是否和第一信息库中的参考层的版图形状是否相同；如果相同，则判断预警点的OPC模拟值是否和第一信息库中的OPC模拟值中相同；如果相同，则判断预警点的OPC修正后的值是否和第一信息库中的OPC修正后的值相同；如果相同，则认为预警点为第二低风险点，多个第二风险点形成所述第二信息库。可以用于过滤相同的低风险点。 | ||
| 搜索关键词： | 绿色 版图 认证 方法 预警 风险 判断 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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