[发明专利]离子源安装结构及离子源装置在审
| 申请号： | 202010850672.7 | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN111834186A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;吴秋生;冀鸣;易洪波;赵刚 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02;H01J27/14 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种离子源安装结构和离子源装置，应用于离子源装置上，所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极；所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处，为所述霍尔离子源提供中和电子；该安装结构包括：离子源底座、角度调节机构和基座；所述霍尔离子源安装在离子源底座上，所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上，所述离子源底座通过角度调节机构进行转动，以调整霍尔离子源的发射角度。通过本申请的技术方案，可以根据镀膜需求来调整霍尔离子源的角度，从而可以提升离子源覆盖效果，提高使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 安装 结构 装置 | ||
【主权项】：
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