[发明专利]掩膜版和蒸镀装置在审
申请号: | 202010871575.6 | 申请日: | 2020-08-26 |
公开(公告)号: | CN112011757A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 康梦华;丁立薇 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。该掩膜版包括掩膜版框架和至少一条掩膜条;掩膜版框架包括第一组边框和第二组边框,第一组边框和第二组边框均包括两个相对设置的边框;掩膜条设置于第一组边框上,沿掩膜版框架指向掩膜条的方向,第一组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少;和/或,还包括至少一条第一支撑结构,第一支撑结构设置于第二组边框上,沿掩膜版框架指向第一支撑结构的方向,第二组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少。当待蒸镀结构和掩膜版具有下垂现象时,可以提高掩膜版下垂时对待蒸镀结构的承托作用,进而可以提高掩膜版的蒸镀精度,减小待蒸镀结构在蒸镀过程中不同区域的shadow不均现象。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 装置 | ||
【主权项】:
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