[发明专利]进行处理装置的检查的系统和检查方法在审
| 申请号： | 202010875893.X | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN112461121A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 杉田吉平;永井健治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01K11/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种进行处理装置的检查的系统和检查方法，能够判定处理装置的异常。进行处理装置的检查的系统具备：温度调整机构，其调整处理装置的处理室内的部件温度；光源，其产生测定光；多个光学元件，在温度调整机构对部件进行温度调整的期间，所述多个光学元件将通过光源产生的测定光作为出射光射出至处理装置的处理室内的部件，并且反射光射入所述多个光学元件；以及控制部，其基于反射光，针对与光学元件对应的每个测定部位测定部件温度，基于测定部位的部件温度的各温度的比较来判定处理装置的异常。 | ||
| 搜索关键词： | 进行 处理 装置 检查 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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