[发明专利]掩膜版及蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 202010880995.0 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN112176282B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 张浩瀚;李慧;刘明星;甘帅燕 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 广东君龙律师事务所 44470 代理人: 丁建春
地址: 230001 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请提供了一种掩膜版和蒸镀装置,该掩膜版包括:框架;多个支撑条和多个掩膜条,平行间隔设置于框架的第一表面,且相邻支撑条之间设置有一个掩膜条;其中,支撑条远离框架一侧表面的面积小于其靠近框架一侧表面的面积;掩膜条远离框架一侧表面的面积大于其靠近框架一侧表面的面积;支撑条邻近掩膜条的边缘设置有第一台阶部,第一台阶部包括与第一表面平行的第一台阶面;掩膜条邻近支撑条的边缘设置有第二台阶部,第二台阶部包括与第一表面平行的第二台阶面;第二台阶面与第一台阶面搭接,且支撑条远离框架的一侧表面高于掩膜条。通过上述方式,本申请可以使得在蒸镀对位过程中待蒸镀基板不会直接压到掩膜条。
搜索关键词: 掩膜版 装置
【主权项】:
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