[发明专利]一种高灵敏手性分子探测表面在审

专利信息
申请号: 202010896955.5 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN111982827A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 中山科立特光电科技有限公司
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528458 广东省中山市中山火炬开发区中心城区港*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及手性分子探测领域,具体提供了一种高灵敏手性分子探测表面,包括基底、磁性材料层、孔洞、贵金属层、贵金属底部,磁性材料层置于基底上,孔洞置于磁性材料层中,贵金属层置于磁性材料层的表面,贵金属底部置于孔洞的底部;应用时,在孔洞中设置待测手性分子,在外磁场作用下,圆偏振光倾斜照射磁性材料层,通过测量反射光实现手性分子探测。本发明具有手性分子探测灵敏度高的优点。
搜索关键词: 一种 灵敏 手性 分子 探测 表面
【主权项】:
暂无信息
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