[发明专利]一种用于清洗硅片的装置有效

专利信息
申请号: 202010927248.8 申请日: 2020-09-07
公开(公告)号: CN112090843B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 白宗权 申请(专利权)人: 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B15/02;H01L21/67
代理公司: 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 代理人: 李斌栋;姚勇政
地址: 710065 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例公开了一种用于清洗硅片的装置,属于硅片加工领域。该装置可以包括:槽体,所述槽体限定出用于容纳清洗液的清洗液容纳空间,并且所述槽体具有用于将所述硅片放入到所述清洗液容纳空间中或将所述硅片从所述清洗液容纳空间取出的水平的槽体开口,其中,所述清洗液含有用于清洗所述硅片的易挥发性化学清洗剂;以及罩盖,所述罩盖构造成密闭所述槽体开口以避免因所述槽体周围的EFU气体流通造成的所述清洗液上方较强的空气流动,从而抑制所述易挥发性化学清洗剂的挥发。通过该装置能够抑制清洗液中的化学清洗剂的浓度的降低,提高清洗液浓度的稳定性进而提高了对硅片的清洗效果,并且能够减少化学品的消耗。
搜索关键词: 一种 用于 清洗 硅片 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司,未经西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010927248.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top