[发明专利]一种靶材装置及其制备方法、应用在审
| 申请号： | 202010947786.3 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112111718A | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 胡小波 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;H01L29/786 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种靶材装置及其制备方法、应用，靶材装置包括背板；若干个靶材，设于所述背板的一面，相邻两个靶材之间具有相对且交叉设置的侧面，这两个相对且交叉设置的侧面之间形成有拼接缝隙；其中所述拼接缝隙远离所述背板的一侧具有缝隙口，所述缝隙口朝向所述背板上的正向投影落入这两个相对且交叉设置的侧面之一。这样的设置方式使得在溅射前期，等离子体轰击不到背板上对应拼接缝隙的位置，避免了背板上的材质被溅射出来，保证了沉积的膜层不被杂质污染，提高产品器件特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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