[发明专利]复合铜膜结构用蚀刻药水有效
| 申请号： | 202010960643.6 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN112064028B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 苏伟;叶宗和 | 申请（专利权）人： | 深圳市志凌伟业光电有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H05K3/06 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 欧阳燕明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道大富*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了复合铜膜结构用蚀刻药水，包括溶剂；第一蚀刻剂，溶于所述溶剂中，所述第一蚀刻剂与所述溶剂的质量体积比为1:4‑1:16；所述第一蚀刻剂为硝酸铈、硝酸铵和硝酸铵铈中的至少一种；第二蚀刻剂，溶于所述溶剂中，所述第二蚀刻剂与所述溶剂的体积比为1:1‑1:6；所述第二蚀刻剂为硫酸、过氧硫酸和亚硝酸中的至少一种；其中，所述第二蚀刻剂与第一蚀刻剂的体积质量比介于1:1至1:6之间。蚀刻药水能够完全蚀刻掉未被光阻保护的电阻层区域，避免出现残存的电阻层，且蚀刻药水不会蚀刻铜膜层，有效地提高了复合铜膜结构的加工精度；同时，也不会影响铜膜和基材层的表面形貌及其介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 膜结构 蚀刻 药水 | ||
【主权项】：
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