[发明专利]一种低介电常数OCA光学材料及制备方法在审
| 申请号： | 202010965302.8 | 申请日： | 2020-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN112194995A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 滕祥秀;华永军 | 申请（专利权）人： | 苏州桐力光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/30 | 分类号： | C09J7/30;C09J7/25;C09J183/07;C09J183/05;C09J183/04;C09J177/00;C09J179/08;C09J123/08;C09J11/06 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 王华 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种低介电常数OCA光学材料及制备方法，包括依次层叠的第一离型膜层、第一有机硅材料层、低K值薄膜、第二有机硅材料层和第二离型膜层；所述第一有机硅材料层和第二有机硅材料层的原料配方包括下列原料：乙烯基硅油、乙烯基硅树脂、含氢硅油、含氢硅树脂、低K值树脂、添加剂、稳定剂和催化剂。所述低K值树脂为非极性树脂；所述低K值薄膜为硅基低K值薄膜。本发明降低了OCA的介电常数，使得介电常数K值≤3.0。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介电常数 oca 光学材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
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